适用领域

电子与半导体以及金属表面处理等行业的在线电镀监测场景。

特点

技术支持

由行业顶尖的技术专家组建研发和技术团队并提供应用技术支持，能够根据用户需求提供定制化解决方案。

分析控制

电镀液有机添加剂全自动在线分析，开放的测量流程，使得能够根据项目特性优化测量参数或创建新流程。

过程管控

支持接入管控系统，当分析数据偏离管控目标时实施自动添加，自定义添加限值可确保过程管控审慎进行。

温度控制

温度波动会影响CVS的分析测量数据，分析仪采用全系统及全流程的温度控制，保障分析测量稳定地进行。

电极系统

使用铂金旋转圆盘工作电极（5 mm）、辅助电极以及参比电极组成的三电极系统扫描电位波形和分析测量。

技术参数

机柜尺寸： 约650 mm (W) × 750 mm (D) × 1 750 mm (H) （实际尺寸会因客户的配置需求而略有不同）

电源要求： 198 V ～ 242 V，50 Hz ± 0.5 Hz，1 000 W

环境要求： 15 ℃ ～ 35 ℃

操作方式： 15英寸全彩色触控屏（Windows系统）